集成電路布圖設計保護條例是中國為保護集成電路設計知識產權而制定的重要法規。集成電路設計是電子工業的核心環節，涉及將電路功能通過特定布局和互連方式實現在半導體芯片上。該條例于2001年頒布，旨在鼓勵創新，防止未經授權的復制和使用。

條例明確了布圖設計專有權的獲取條件：設計必須具有原創性，且未被廣泛知曉。保護期限為10年，自登記或首次商業利用之日起計算。權利人享有復制、商業利用等專有權利，同時條例也規定了合理使用的情形，如為教學或分析目的而使用。

侵權責任方面，條例規定未經許可復制或商業利用他人布圖設計，需承擔民事賠償乃至刑事責任。執法機構可責令停止侵權，沒收違法所得，并處以罰款。這一框架有效促進了中國集成電路產業的健康發展，激勵了本土技術創新。

該條例平衡了知識產權保護與行業進步，為全球半導體領域的競爭提供了法律保障。隨著技術演進，條例的實施仍需持續優化以適應新興挑戰。